低溫等離子除臭設(shè)備又稱低溫等離子廢氣凈化器。

低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當外加電壓達到氣體的 放電電壓時，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應以達到降解污染物的目的。

去除污染物的原理

低溫等離子體技術(shù)處理污染物的原理為：在外加電場的作用下，介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發(fā)，然后便引發(fā)了一系列復雜的物理、化學反應，使復雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹唵涡》肿?nbsp;  物質(zhì)，或使物質(zhì)轉(zhuǎn)變成   或低毒低害的物質(zhì)，從而使污染物得以降解去除。因其電離后產(chǎn)生的電子平均能量在10ev ，適當控制反應條件可以實現(xiàn)一般情況下難以實現(xiàn)或速度很慢的化學反應變得。作為環(huán)境污染處理領(lǐng)域中的一項具有強潛在優(yōu)勢的高，等離子體受到了相關(guān)學科界的高度關(guān)注。

等離子廢氣凈化器采用了的吸附-分解-碳化 離心式抽風安裝工藝技術(shù)設(shè)計,采用標準模塊設(shè)計等優(yōu)點,是一種干法處理廢氣的凈化設(shè)備。它改變了使用活性碳材料的工藝技術(shù),無需   處理原料,無需專人負責,不產(chǎn)生二次污染,   換及維護保養(yǎng)方便。

低溫等離子除臭設(shè)備技術(shù)特點

1、技術(shù)，工藝簡潔：開機后，即自行運轉(zhuǎn)，受工況限制非常少，無需專人操作，除臭率可達99%。

2、節(jié)能： 無機械設(shè)備，空氣阻力小，耗電量約為0.003kw/m3廢氣。 

3、適應工況范圍寬： 設(shè)備啟動、停止，隨用隨開，不受氣溫的影響。在250℃以下和在霧態(tài)工況環(huán)境中均可正常運轉(zhuǎn)。-50℃至 +50℃的環(huán)境溫度仍可正常運轉(zhuǎn)。 

4、設(shè)備使用壽命長：本設(shè)備由不銹鋼材，銅材、鉬材、環(huán)氧 樹脂等材料組成，，采用材料，電與廢氣不直接接觸，根本上解決了設(shè)備腐蝕問題。

5、結(jié)構(gòu)簡單：只需用電，操作為簡單，無需派專職人員看守，基本不占用人工費。

6、無機械設(shè)備：故障率低，維修容易。

7、應用范圍廣：介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生的低溫等離子體中，電子能 量高，幾乎可以將所有的異味氣體分子降解。等離子體去除污染物的基本過程

過程一：電子的直接轟擊

過程二：O原子或臭氧的氧化

O2+e→2O

過程三：OH自由基的氧化

H2O+e→OH+H

H2O+O→2OH

H+O2→OH+O

過程四：分子碎片+氧氣的反應

低溫等離子除臭設(shè)備已經(jīng)還廣泛的應用于環(huán)境保護、包裝、紡織、塑料制品、汽車制造、電子設(shè)備制造、家電制造、計算機制造、手機制造、生物材料、衛(wèi)生材料、器皿、、環(huán)保設(shè)備、石油氣管道、供暖管道、化工子、半導體、航空航天等行業(yè)中。   

安裝規(guī)范要求

1:輸入電源   與凈化器所用電源相符，嚴禁輸入電源與凈化器所用電源不符，且凈化器箱體   接地，以   。

2:凈化器進風口   安裝變徑導風分流管(內(nèi)設(shè)百葉式分流片，每片間距100MM)，使廢氣平均分布進入凈化器的各處理室，提高凈化器使用率和處理效果。

3:在安裝凈化器   留有足夠空間用來打開凈化器的門艙和電控蓋，方便維護，檢修及清洗。

4:為   ，凈化器   安裝在室外，遠離人群并對凈化器的電控電源加蓋保護，以防雨水及陽光損壞電控電源而導致發(fā)生事故；否則后果自行承擔。

5:凈化器需拆散搬運安裝時，   由人員根據(jù)原有裝配規(guī)范操作組裝，嚴禁有雜物或砂塵進入內(nèi)部處理室，并檢查內(nèi)部件是否牢固。

6:選擇凈化器安裝位置時，要求與污染源保持5米以上距離，抽風機與凈化器保持在3米以上距離較為合適，并加設(shè)減振套以防影響凈化器工作。

7:凈化器安裝在高樓天臺時，建議安裝防雷設(shè)施，以保   ，嚴禁將凈化器安裝在高溫設(shè)施附近。