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半水基清洗采用的清洗流程如下:

半水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫水-IPA慢拉干燥

此種清洗工藝同溶劑清洗相比zui大的區(qū)別在于，其前兩個(gè)清洗單元：有機(jī)溶劑清洗只對(duì)瀝青或漆片具有良好的清洗效果，但卻無(wú)法清洗研磨粉等無(wú)機(jī)物；半水基清洗劑則不同，不但可以清洗瀝青等有機(jī)污染物，還對(duì)研磨粉等無(wú)機(jī)物有良好的清洗效果，從而大大減輕了后續(xù)清洗單元中水基清洗劑的清洗壓力。半水基清洗劑的特點(diǎn)是揮發(fā)速度很慢，氣味小。采用半水基清洗劑清洗的設(shè)備在*個(gè)清洗單元中無(wú)需密封冷凝和蒸餾回收裝置。但由于半水基清洗劑粘度較大，并且對(duì)后續(xù)工序使用的水基清洗劑有乳化作用，所以第二個(gè)單元須市水漂洗，并且將其設(shè)為流水漂洗。

國(guó)內(nèi)應(yīng)用此種工藝的企業(yè)不多，其中一個(gè)原因是半水基清洗劑多為進(jìn)口，價(jià)格比較昂貴。

從水基清洗單元開(kāi)始，半水基清洗工藝同溶劑清洗工藝基本相同。

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