污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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更新時(shí)間：2025-10-04 15:22:00瀏覽次數(shù)：69次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線電子行業(yè)水處理設(shè)備概述 半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品
電子行業(yè)水處理設(shè)備概述
半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級(jí)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。
2工藝簡(jiǎn)介
電子、半導(dǎo)體、液晶顯示、光伏工業(yè)生產(chǎn)在制作過(guò)程中，往往需要使用極其純凈的超純水。如果純水水質(zhì)達(dá)不到生產(chǎn)工藝用水的要求或者水質(zhì)不穩(wěn)定的話，會(huì)影響到后續(xù)工藝的處理效果和使用壽命。在光伏行業(yè)電子管生產(chǎn)中，如其中混入雜質(zhì)，就會(huì)影響電子的發(fā)射，進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命，在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中，其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì)，如其配制純水中含銅在8ppb以上，就會(huì)引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會(huì)使發(fā)光變色、變暗、閃動(dòng)并會(huì)造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。
3工藝流程
1、采用離子交換方式，其流程如下：自來(lái)水→電動(dòng)閥→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→精密過(guò)濾器→陽(yáng)樹脂床→陰樹脂床→陰陽(yáng)樹脂混合床→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)2、采用兩級(jí)反滲透方式，其流程如下：自來(lái)水→電動(dòng)閥→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透主機(jī)→PH調(diào)節(jié)→混合器→二級(jí)反滲透主機(jī)（反滲透膜表面帶正電荷）→純水箱→純水泵→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)
3、采用高效反滲透加EDI方式，其流程如下（工藝）：自來(lái)水→電動(dòng)閥→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→PH值調(diào)節(jié)系統(tǒng)→高效混合器→精密過(guò)濾器→高效反滲透→中間水箱→EDI水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn).
4三種工藝比較
制備電子工業(yè)超純水的工藝基本上是以上三種，其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎(chǔ)上進(jìn)行不同組合搭配衍生而來(lái)?，F(xiàn)將他們的優(yōu)缺點(diǎn)分別列于下面：
種采用傳統(tǒng)的離子交換樹脂其優(yōu)點(diǎn)在于初次投資少，占用的地方少，但缺點(diǎn)就是需要經(jīng)常進(jìn)行離子再生，耗費(fèi)大量酸堿，而且對(duì)環(huán)境有一定的破壞。
第二種采用反滲透+離子交換設(shè)備，其特點(diǎn)為初次投資比采用離子交換樹脂方式要稍高，但離子再生周期相對(duì)要長(zhǎng)，耗費(fèi)的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。是比較經(jīng)濟(jì)與流行的一種工藝。
第三種采用反滲透作預(yù)處理再配上電去離子裝置，這是目前制取超純水，的的工藝，不需要用酸堿進(jìn)行再生便可連續(xù)制取超純水，對(duì)環(huán)境沒(méi)什么破壞性。其缺點(diǎn)在于初次投資相對(duì)以上兩種方式過(guò)于昂貴。
5設(shè)備特點(diǎn)
電子工業(yè)超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過(guò)濾器，活性碳過(guò)濾器，鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無(wú)人值守，同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使該設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。
6電路板用設(shè)備
主要應(yīng)用
1. 大規(guī)模集成電路元器件的生產(chǎn)用水，一般電阻率均大于18MO-CM。按國(guó)家有關(guān)用水標(biāo)準(zhǔn)(GB/T11446.1-1997)執(zhí)行。
2. 電子元件廠，在焊接和組裝過(guò)程中的沖洗用水。依據(jù)電子元件生產(chǎn)工藝不同，其用水標(biāo)準(zhǔn)中(即GB/T11446.1-1997)有可為四級(jí)(一級(jí)電導(dǎo)率18MO-CM以上，二級(jí)電阻率不低于15MO-CM，3級(jí)電阻率12MO-CM, 4級(jí)為0.5MO-CM)。
技術(shù)特征
制取電子級(jí)超純水
可連續(xù)自動(dòng)生產(chǎn)，不必停機(jī)再生
出水水質(zhì)優(yōu)于常規(guī)離子交換法
不需酸堿再生，不污染環(huán)境
運(yùn)行成本低，占地面積小
7應(yīng)用領(lǐng)域
1、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水;
2、超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水;
3、實(shí)驗(yàn)室和中試車間用超純水;
4、汽車、家電表面拋光處理;
5、光電子產(chǎn)品;
6、其他高科技精微產(chǎn)品。
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